कैसे एसिड और मामले हानिकारक हैं?

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लेखक: Robert Simon
निर्माण की तारीख: 24 जून 2021
डेट अपडेट करें: 14 मई 2024
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संक्षारक पदार्थ त्वचा, आंखों, श्लेष्म झिल्ली और श्वास मार्ग जैसे ऊतकों को नुकसान पहुंचाते हैं। अम्ल और क्षार में संक्षारक गुण होते हैं। एसिड और अड्डों से रासायनिक जलने से होने वाले नुकसान की मात्रा पदार्थ की एकाग्रता और एक्सपोज़र की अवधि पर निर्भर करती है। यदि वे केंद्रित समाधानों में हैं, तो किसी भी एसिड या ठिकानों को नुकसान हो सकता है। मजबूत अम्ल और क्षार पतला सांद्रता में भी संक्षारक हो सकते हैं।


टीएल; डीआर (बहुत लंबा; डिडंट रीड)

अम्ल और क्षार संक्षारक पदार्थ हैं। उनके कारण ऊतक क्षति की मात्रा एसिड या बेस की शक्ति और एकाग्रता और जोखिम की अवधि से संबंधित है।

हाइड्रोजन की शक्ति

किसी पदार्थ की अम्लता या क्षारीयता उसके pH मान द्वारा निर्धारित की जा सकती है। पीएच स्केल एक विलयन में हाइड्रोजन आयनों की सांद्रता का माप है, जो 0 से 14. तक है। यह एक विलयन में हाइड्रोजन सांद्रता के ऋणात्मक लघुगणक का प्रतिनिधित्व करता है, जहाँ एक निम्न pH मान हाइड्रोजन आयनों की उच्च सांद्रता के साथ मेल खाता है। पीएच मान विलयन में हाइड्रोजन आयनों की सांद्रता का विलोम है, इसलिए हाइड्रोजन परमाणुओं की अधिक सांद्रता के कारण एसिड का पीएच कम होता है, और आधारों का पीएच अधिक होता है। एसिड का पीएच 7 से कम है, और आधारों का पीएच 7 से अधिक है।

आयनीकरण

एसिड और ठिकानों की ताकत या कमजोरी पानी के साथ उनकी प्रतिक्रिया द्वारा निर्धारित की जाती है। मजबूत एसिड पानी में हाइड्रोजन आयन (H +) को आसानी से छोड़ देते हैं, जिसका अर्थ है कि उनके पास उच्च मात्रा में आयनीकरण है। मजबूत आधारों के अणु आसानी से हाइड्रॉक्साइड (OH) दान करने के लिए पानी में घुल जाते हैं-) आयनों। सबसे मजबूत अम्ल और क्षार पानी में पूरी तरह से घुल जाते हैं और इनमें सबसे अधिक मात्रा में आयनीकरण होता है। कमजोर अम्ल और क्षार पानी में बहुत कम घुलते हैं और कई आयनों को नहीं छोड़ते हैं।


मजबूत एसिड

4 से कम पीएच वाले एसिड से रासायनिक जलन हो सकती है। कुछ सामान्य मजबूत एसिड में हाइड्रोक्लोरिक, नाइट्रिक, सल्फ्यूरिक और फॉस्फोरिक एसिड शामिल हैं। एसिटिक, साइट्रिक और कार्बोनिक जैसे कमजोर एसिड संक्षारक नहीं होते हैं। वे सुरक्षित रूप से भस्म हो सकते हैं और त्वचा को परेशान नहीं करते हैं। हालांकि, अधिक सांद्रता में कमजोर एसिड हानिकारक हो सकता है। एसिड पानी के साथ हिंसक रूप से प्रतिक्रिया कर सकते हैं और मुंह या आंखों में नमी की उपस्थिति या अन्य जलीय समाधानों के साथ निकटता में हानिकारक हैं। कुछ एसिड से वाष्प पानी में घुलनशील होते हैं और आंखों, नाक मार्ग, गले और फेफड़ों को नुकसान पहुंचा सकते हैं। एसिड से होने वाली जलन को तुरंत महसूस किया जाता है। तुरंत जलन या दर्द महसूस करना व्यापक नुकसान होने से पहले इन प्रकार के जलने का इलाज जल्दी से करने की अनुमति देता है।

मजबूत आधार

10 से अधिक पीएच वाले पदार्थ रासायनिक जलन पैदा कर सकते हैं। मजबूत आधारों में कैल्शियम हाइड्रॉक्साइड, सोडियम हाइड्रॉक्साइड और पोटेशियम हाइड्रॉक्साइड शामिल हैं। कुछ सामान्य कमजोर आधार अमोनिया और सोडियम बाइकार्बोनेट हैं। अड्डों से रासायनिक जलने से उतना दर्द नहीं होता है जितना एसिड जलता है, लेकिन नुकसान अधिक व्यापक हो सकता है। पानी के साथ गैसें भी दृढ़ता से प्रतिक्रिया कर सकती हैं, और पानी के साथ कई ठिकानों की प्रतिक्रियाएं बहुत अधिक हैं, जिसका अर्थ है कि वे गर्मी से दूर हैं। त्वचा और वसायुक्त ऊतक पर तेल भी प्रतिक्रिया करता है, जिससे त्वचा और चमड़े के नीचे के ऊतकों को व्यापक नुकसान हो सकता है। क्षारीय पदार्थों से जलना भी एसिड के कारण होने वाली जलन की तुलना में उपचार के लिए कठिन होता है क्योंकि एक्सपोज़र हमेशा जल्दी पता नहीं चलता है। गैसों को फिसलन महसूस होती है और एसिड की तुलना में त्वचा से निकालना अधिक कठिन हो सकता है।


ऊतक क्षति के लक्षण

संक्षारक रसायन त्वचा, आंखों और श्वसन तंत्र के लिए हानिकारक होते हैं। वे निगलने पर पाचन तंत्र को भी नुकसान पहुंचाते हैं। त्वचा पर रासायनिक जलन के लक्षणों में लालिमा, दर्द, छीलने और छाले शामिल हैं। श्लेष्म झिल्ली और श्वास मार्ग में वे सूजन, सूजन, सीने में दर्द और सांस लेने में कठिनाई का कारण बनते हैं। आंखों के संपर्क में पानी आना, दर्द, खुले घाव और अंधापन हो सकता है। अंतर्वर्धित संक्षारक आंतरिक ऊतक के दर्द और सूजन के साथ-साथ उल्टी और दस्त का कारण बन सकता है।